금속 에칭 공정의 유형

금속 에칭 공정은 곰팡이 제조, 스케일 만들기, 기계 부품 및 전자 부품 제조와 같은 필드에서 널리 사용되는 화학 반응 또는 물리적 영향을 통해 금속 재료를 제거하는 기술입니다. 다양한 처리 요구 사항 및 재료 유형에 따라 금속 에칭 프로세스는 화학 에칭, 전해질 에칭, 기계식 에칭 등을 포함한 다양한 유형으로 나눌 수 있습니다.
화학 에칭 :
화학 에칭은 화학 반응을 통해 금속 표면에서 하나 이상의 재료 층을 제거하여 원하는 패턴 또는 구조를 형성하는 과정입니다. 이 과정에는 일반적으로 사전 에칭, 에칭, 물 세척, 산성 침수, 저항 필름 제거 및 건조와 같은 단계가 포함됩니다. 이 방법은 높은 정밀, 비파괴 처리 및 강력한 유연성의 장점을 가지고 있으며 소규모 배치 고정밀 처리에 적합합니다.
전해 에칭 :
전해질 에칭은 전해질을 사용하여 전기장의 작용 하에서 금속 표면을 녹이고 구리 및 스테인레스 스틸과 같은 재료를 가공하는 데 적합합니다. 공정 흐름에는 탱크에 들어가고, 전력 켜기, 에칭, 물로 세척, 산성 침수 처리 및 건조와 같은 단계가 포함됩니다. 이 방법은 더 미세한 가공 결과를 얻을 수 있습니다.
기계식 에칭 :
기계식 에칭은 밀링, 절단 또는 스프레이와 같은 물리적 수단을 통해 금속 표면 재료를 제거하며 곰팡이 제조 및 부품 처리에 일반적으로 사용됩니다. 이 방법은 높은 강도와 ​​내구성이 필요한 응용 시나리오에 적합합니다.
젖은 에칭 및 드라이 에칭 :
습식 에칭은 액체 화학 시약을 사용하여 수행되는 반면, 건조 에칭은 진공 환경에서 가스 또는 이온 빔을 사용하여 수행됩니다. 습식 에칭은 대규모 생산에 적합한 반면, 건식 에칭은 고정밀 미세 가축성에 더 적합합니다.

특별한 에칭 기술
순환 에칭 : 장기 처리에 적합하여 솔루션 구성을 변경하지 않고 반복성과 독립성을 보장합니다.
진공 에칭 : 에칭은 진공 조건 하에서 저압 환경을 사용하여 수행되며, 이는 단결정 가스 성장에 적합합니다.
안개 에칭 : 표면 최종 에칭은 미세 입자를 분사하여 전기 특성과 선명도를 최적화하여 수행됩니다.